ASML说，已经开始将第一套最新半导体先进制程设备高数值孔径极紫外光系统的主要部分出货给英特尔。未具名的知情人士告诉彭博社信息，这套最尖端芯片制造设备，是送到英特尔位于美国奥勒冈州的工厂。
ASML在社交平台X上贴出照片说：我们很兴奋也很骄傲，运送第一套High-NA EUV到英特尔。
据了解，ASML这套最先进微影设备的主要机件，已经运抵英特尔奥勒冈州D1X厂。 彭博向英特尔与ASML查证时，两家公司都不评论机器设备的目的地。
彭博分析指出，High-NA EUV制程技术对ASML与英特尔都非常重要。 英特尔CEO基辛格承诺要最先拿到这款最新型的机器，展现英特尔重新投入制造技术第一线。 ASML推出最新的High-NA EUV设备，目标在保持芯片厂对其设备的依赖。
去年ASML曾经在一份声明中提到，英特尔计划2025年开始以这套最新设备生产先进制程芯片。 英特尔的D1X厂是公司研发与精进优化未来生产技术的设施。
ASML是全球最大的微影系统设备供应商，微影技术应用于先进芯片关键制程。 独家制造的极紫外光(EUV)设备，供应给台积电、三星电子和英特尔生产最先进芯片。
ODDO BHF分析师团队上个月在报告中估计，ASML这套最先进制程设备，一套的价格大约2.5亿欧元。 它的第二代，生产力将会再提高，价格预料会超过3.5亿欧元。
