佳能推出了半导体制造工序中在晶圆上绘制电路装置的新产品。 该设备使用被称为Nano-imprint（纳米压印）的新技术，能够以低成本、低能耗来制造智能手机和数据中心等所需要的最尖端半导体。
在晶圆上绘制电路时，一般采用被称为曝光装置的基于光技术的设备。 Nano-imprint与以往的曝光工艺不同，采用像盖章一样绘制电路的方式，由于生产工艺简单，可以减少设备投资额。
为了向市场投放新装置，曝光装置生产企业佳能2014年就开始进行持续研发。 与铠侠和大日本印刷合作，以实现实用化为目标，进行了大力开发。
半导体要提高性能，需要制作出更微细的线宽。 新装置可以制造尖端半导体5纳米产品。 目前，要量产几纳米（1纳米是十亿分之一米）以上电路的半导体，必须使用荷兰ASML垄断的采用极紫外光（EUV）技术的装置。 但这种装置存在的课题是价格昂贵、耗电量大。
据称，由于Nano-imprint不使用光，因此耗电量小，还能够减排二氧化碳。 据说已经有多家半导体厂商在考虑引入该装置。 佳能表示希望在客户的量产线上切实提高良品率，将进一步改进装置。
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