日本半导体设备大厂佳能透露，新推出的奈米压印微影设备售价只有龙头厂ASML最佳机台的几分之一。
彭博社5日报道，佳能首席执行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）受访时表示，最新NIL技术让小型半导体厂也有机会生产目前几乎全由大企业寡占的先进芯片。 他说，机台售价将比ASML的极紫外光（EUV）微影设备少一位数。不过，最终价位尚未敲定。
御手洗表示，NIL设备需要的电力只要EUV机台的1/10;虽然NIL应该难以取代EUV，但相信这能创造新的机会和需求，已有许多客户前来洽询。
根据佳能 10月13日的声明，NIL微影设备可用来生产5纳米芯片，且经过改良、将可进一步用来生产2纳米芯片。
华为Mate 60 Pro内建的处理器麒麟9000s引发市场瞩目。 加州研究机构TechInsights拆解后证实，中芯国际运用现有设备，以名为N+2的第二代7纳米制程打造支持5G的麒麟9000s。
不过，南华早报报道，东京电子研究机构通过电子邮件受访时表示，根据该机构拆解，麒麟9000s应该是中芯国际以自家的14纳米制程打造，但增添部分特殊技术，以使运算效能逼近7纳米等级处理器。
Tom's Hardware 9月3日报道，中芯国际的Twinscan NXT：2000i深紫外光（DUV）微影设备虽可打造5纳米或精制的7纳米芯片，却必须大量使用多重曝光程序，这是一种影响良率及成本的昂贵技术。 因此，中芯国际5纳米制程的经济效益，应该远低于英特尔、台积电及三星。
